Guinier G670.3高温环境XRD运用成像板技术，通过成熟的工艺技术，配合温度调节配件，可对高至1772℃的粉末样品进行X射线衍射测量。

Guinier低温环境XRD运用成像板技术，通过成熟的工艺技术，配合温度调节配件，可对低至4K的粉末样品进行X射线衍射分析。

超高压高精X射线粉末衍射仪运用成像板技术，通过成熟的工艺技术，配合高压系统Diamond Anvil Cell Holder 670.5，通过金刚石对顶砧加压，可实现在高达70GPa的压力条件下研究粉末样品（可扩展至120GPa）。

Guinier超低温高精X射线粉末衍射仪运用成像板技术，通过成熟的工艺技术，配合温度调节配件，可对低低至4K的粉末样品进行X射线衍射分析。

Guinier超高温高精X射线粉末衍射仪运用成像板技术，通过成熟的工艺技术，配合温度调节配件，可对高至1772℃的粉末样品进行X射线衍射测量。